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    X射線光電子能譜（XPS）

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    平均周期4天  |  總體滿意度99.3%

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     等離子體光譜儀（ICP-OES）

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    已預(yù)約20007次

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     等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）

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     X射線熒光光譜（XRF）

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     元素分析儀（EA）

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     離子色譜儀（IC）

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     質(zhì)譜儀（MS）

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     靜態(tài)二次離子質(zhì)譜（TOF-SIMS）

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     總有機(jī)碳/總無機(jī)碳/總氮/需氧量分析儀（TOC/TIC/TN/COD/BOD）

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     氧氮?dú)渎?lián)測儀（ONH分析）

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     高效液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（HPLC-MS）

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    已預(yù)約826次

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     氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（GC-MS）

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     紅外碳硫儀

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    已預(yù)約2315次

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     高效液相色譜（HPLC）

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    已預(yù)約516次

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     原子吸收光譜儀（AAS）

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    已預(yù)約3126次

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     穆斯堡爾譜儀

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    已預(yù)約3586次

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     全自動氨基酸分析儀

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     氣相色譜（GC）

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     凱氏定氮儀

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    已預(yù)約1709次

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     煤質(zhì)分析

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     俄歇電子能譜（AES）

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     輝光放電光譜/質(zhì)譜儀（GD-OES/GD-MS）

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    已預(yù)約1927次

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     化學(xué)滴定

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     全自動電位滴定儀

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     動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

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     火花直讀光譜儀

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     未知成分分析

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     同位素

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     硫氮氯元素分析儀

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     灰分測試

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     電子鼻

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     原子熒光光譜儀（AFS）

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     液相色譜-電感耦合等離光譜儀/質(zhì)譜儀（HPLC-ICP/MS）

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    已預(yù)約2116次

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     電子舌

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     激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（LIBS）

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     氣相離子遷移譜聯(lián)用儀（GC-IMS）

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     微區(qū)XPS

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     紅外測油儀

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     脂肪測定儀

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     液相色譜-原子熒光聯(lián)用（HPLC-AFS）

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     穩(wěn)定同位素

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    已預(yù)約2670次

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     OC/EC分析儀

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     三維原子探針（APT）

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    已預(yù)約3312次

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     微波暗室拱形架測試系統(tǒng)

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    已預(yù)約1904次

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     激光剝蝕（多接收)等離子體質(zhì)譜儀 LA-(MC)-ICP-MS

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    已預(yù)約186次

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     杯突試驗(yàn)機(jī)

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     硫化氫分析儀

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    已預(yù)約1484次

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     微波暗室遠(yuǎn)場測試系統(tǒng)

    微波暗室遠(yuǎn)場測試系統(tǒng)

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     低本底α/β測量儀

    低本底α/β測量儀

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     測汞儀

    測汞儀

    已預(yù)約1175次

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     失效分析

    失效分析

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     薄層色譜儀（TLC）

    薄層色譜儀（TLC）

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    常見問題

    Q&A

    Q：到底是發(fā)論文還是申請專利？
    A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專利會經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開的論文會導(dǎo)致在后申請的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對于同一方案務(wù)必先申請專利再發(fā)表論文。
    Q：專利申請為什么要趁早？
    A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評獎、職稱考核、高企認(rèn)定等過程中添加砝碼，競爭激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
    Q：哪些不能申請專利？
    A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識作用的設(shè)計。
    Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
    A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時間更長，實(shí)用新型不需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實(shí)用價值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計專利權(quán)的期限為十五年，均自申請日起計算。
    Q：什么是技術(shù)交底書？
    A：技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
    Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
    A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請優(yōu)先審查，最快可在6-8個月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時間。
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