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    聚焦離子束FIB測試用途以及注意事項
    來源:測試GO 時間:2022-08-30 14:19:38 瀏覽:3740次


    聚焦離子束技術(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面,實現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。FIB利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工,配合掃描電鏡(SEM)等高倍數(shù)電子顯微鏡實時觀察,成為了納米級分析、制造的主要方法。

    FIB制樣流程

    (1)找到目標位置,表面噴上Pt進行保護;

    (2)將目標位置前后兩側挖空,剩下目標區(qū)域;

    (3)通過機械納米手將薄片取出,進行離子束減??;

    (4)減薄到理想厚度后停止;

    (5)將樣品焊到銅網(wǎng)上的樣品柱上。

     

    FIB應用

    聚焦離子束系統(tǒng)除了具有電子成像功能外,經(jīng)過加速聚焦后還可對材料和器件進行蝕刻、沉積、離子注入等加工。


    離子束成像:

    聚焦離子束轟擊樣品表面,激發(fā)二次電子、中性原子、二次離子和光子等,收集這些信號,經(jīng)處理顯示樣品的表面形貌。


    離子束刻蝕:

    高能聚焦離子束轟擊樣品時,其動能會傳遞給樣品中的原子分子,產(chǎn)生濺射效應,從而達到不斷刻蝕,即切割樣品。其切割定位精度能達到5nm級別,具有超高的切割精度。


    離子束沉積薄膜:

    利用離子束的能量,激發(fā)化學反應來沉積金屬材料和非金屬材料。通過氣體注入系統(tǒng)將一些金屬有機物氣體噴涂在樣品需要沉積的區(qū)域,當離子束聚焦在該區(qū)域時,離子束能量使有機物發(fā)生分解,分解后的金屬固體成分被沉積下來,而揮發(fā)性有機物成分被真空系統(tǒng)抽走。


    離子注入:

    FIB另一個重要應用就是可以無掩模注入離子。利用聚焦離子束技術的精確定位和控制能力,就可以不用掩模板,直接在半導體材料和器件上特定的點或者區(qū)域進行離子注入,精確控制注入的深度和廣度。


    透射電鏡樣品制備:

    通常透射電鏡的樣品厚度需控制在0.1微米以下。傳統(tǒng)方法是通過手工研磨和離子濺射減薄來制樣,這費時且無法精確定位。而FIB在制作透射電鏡樣品時,不但能精確定位,還能做到不污染和損傷樣品。


    FIB送樣注意事項

    (1)粉末樣品至少5微米以上尺寸,且無磁性;薄膜/塊體樣品最大不超過2cm,高度不超過3mm,可以有磁性;強磁樣品的盡量讓尺寸更?。?/span>

    (2)樣品需導電,不導電樣品必須能噴金增加導電性。

    (3)切割深度必須小于50微米。


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    12條評論
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    全部 3小時前 四川
    文字是人類用符號記錄表達信息以傳之久遠的方式和工具?,F(xiàn)代文字大多是記錄語言的工具。人類往往先有口頭的語言后產(chǎn)生書面文字,很多小語種,有語言但沒有文字。文字的不同體現(xiàn)了國家和民族的書面表達的方式和思維不同。文字使人類進入有歷史記錄的文明社會。
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