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    紫外光電子能譜UPS—原理及應(yīng)用
    來源:研之成理 時間:2020-04-11 17:25:01 瀏覽:14899次

    本文轉(zhuǎn)載自研之成理

    1. 前言

    對于光電子能譜而言,大家比較熟悉的XPS,也是我們在實驗中經(jīng)常遇到的表征。但是,實際上而言,光電子能譜最早是在紫外光激發(fā)下發(fā)現(xiàn)的。也正是因為紫外光輻照下的光電效應(yīng)的發(fā)現(xiàn),啟發(fā)了愛因斯坦于1905年提出了著名的光電效應(yīng)方程。

    紫外光電子能譜(Ultraviolet photoelectron spectroscopy, UPS)用的是紫外光激發(fā)樣品表面,從而使得樣品表面出射光電子。He燈(He I激光能量為21.21 eV, He II 40.82 eV),同步輻射光源由于能量連續(xù)可調(diào),也可以作為真空紫外光源。

    XPS相比,紫外光能量較低,因而出射光電子大多來自價電子,很少用于定量分析。但是,價電子一般參與化學(xué)成鍵作用,因此UPS特別適合研究表明的成鍵作用。同時,UPS還能提供固體功函數(shù),能帶結(jié)構(gòu)等信息。測量能帶結(jié)構(gòu)需要角分辨的UPSARUPS),比較復(fù)雜(小編也不懂)。今天主要為大家介紹利用UPS測量樣品功函數(shù)。


     0 UPS測量示意圖


    2.功函數(shù)測量原理

    1能量分析器對金屬樣品功函數(shù)測量的影響[1]


    一般UPS直接以費米能級為能量參考點,那么結(jié)合能EB=0就對應(yīng)費米能級EF.但是由于實驗上的原因,愛因斯坦的光電方程需要考慮能量分析器的功函數(shù)sp)的偏離:

    EK=hv-EBsp;

    典型UPS譜圖如圖2所示:

    2 典型UPS譜。左側(cè)為二次電子截止邊,右側(cè)高動能區(qū)為費米邊。光電子激發(fā)的電子在近表層發(fā)生非彈性散射作用,激發(fā)出的二次電子也有足夠的能量逃逸出表面,形成譜圖中的二次電子背景(secondary electrons background) [2]。


    對于金屬樣品而言,給定激發(fā)光子能量hv,所檢測到的最大動能為:

    Efermikinetic energy=hv -Φsp

    而最小動能由樣品功函數(shù)(Φ)與分析器功函sp)共同決定:

    EK,MIN=Φ-Φsp(即為UPS中的截止邊,cutoff

    兩個能量進行差減,可以得到金屬樣品的絕對功函數(shù)

    Φ=hv – (EK,MAX-EK,MIN)=hv-W

    可以將W稱作UPS出射電子譜帶的寬度,即將費米邊的能量與截止邊的能量差減得到[1]。

    注意:

    1. 上述例子是以金屬樣品為例,此時金屬樣品與譜儀良好電接觸,費米能級完全一致,測得金屬的絕對功函數(shù)。

    2. 對于半導(dǎo)體而言,EF位于帶隙之間,它與價電子所能填充能量位置(價帶頂)有一個位置的能量差,比較難確定,UPS譜圖高動能起始邊其實對應(yīng)于價帶頂位置。采用上述計算方法,即hv-W,實際上得到的為價帶頂(VBM)位置,也可用來計算電離勢(Ionization potential)[3]。

     

    3.功函數(shù)測量實例

    3.1.  金屬(單晶)表面

    在實際測量中,利用He I 紫外光就可以測得UPS譜,計算出功函數(shù)。

     

    3 Au(111)單晶表面的UPS測量[2]

    此處費米臺階中點可以定為費米能級位置。而截止邊能量為15.95eV,紫外光為He I21.2eV;

    Au的功函數(shù)Φ=hv– (EK, MAX- EK, MIN)= 21.2-15.95=5.25 eV;

    注:有時候為了保證二次截止邊附近的電子動能大于0,減小真空腔體影響,得到較為銳利的截止邊,可以在樣品加上一定的偏壓,按照相應(yīng)的偏壓值,以及上述公式計算功函數(shù)。

     

    3.2.  多晶、粉末樣品

    對于多晶樣品而言,利用UPS測量功函數(shù)的原理是一樣的,也需要得到費米邊和二次電子截止邊,但是實際上分析有一定的難度。

    首先樣品不純,比如表面吸附水,會極大地影響功函數(shù)的測量值;其次如果樣品之間不夠致密,可能會把基底露出來,導(dǎo)致基底信號干擾。另外,樣品導(dǎo)電性也有很大影響,很多粉末樣品不導(dǎo)電,荷電效應(yīng)也會對光電子出射產(chǎn)生影響,

    因此,粉末多晶樣品利用UPS得到的功函數(shù)值,會有比較大的測量誤差

    如果能保證制樣中樣品的潔凈程度,測得的結(jié)果也有意義,此處也舉一例:

     4 Ca2N的功函數(shù)測量[4]

    4中,給出了Ca2N二維片層材料的UPS功函數(shù)的測量。作者利用自制的設(shè)備,在超高真空條件下得到了干凈的表面,然后分別測試了單晶片和壓片多晶樣品的功函數(shù),分別為3.5 eV2.6 eV,分別來自樣品的(001)面和(100面)。

    從圖4 b中可以看出,作者也通過在單晶樣品上面加上不同的偏壓(0 ~ 10 V),可以看出截止邊隨著偏壓的增加而線性移動。而多晶樣品隨偏壓變化不明顯,總是給出樣品中最低晶面的功函數(shù)[4]。


    4. 價帶譜

    UPS對于價帶電子結(jié)構(gòu)非常敏感,因此能提供豐富的表面成鍵結(jié)構(gòu)信息。比如CO在金屬表面的吸附,就可以用UPS進行探測CO的分子軌道信息(5)。

    5 CO吸附與Ni表面的UPS[2]

     

    參考資料:
    1. Kolasinski, K. W. (2002). Surface Science: Foundations of Catalysis and Nanoscience Chichester?, New York: Wiley.
    2. LouisScudiero,Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (UPS)-1[PPT].
    3. Liu, J., Liu, Y.,Liu, N., Han, Y., Zhang, X., Huang, H., Lifshitz, Y., Lee, S.-T., Zhong, J.& Kang, Z. (2015). Science. 347, 970–974. 
    4. Lee, K., Kim, S. W., Toda,Y., Matsuishi, S. & Hosono, H. (2013). Nature. 494, 336–340.
     

    致謝:本文得到了合肥同步輻射實驗室光電子能譜站(NSRL-BL10B)的大力支持,非常感謝!





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    12條評論
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    全部 3小時前 四川
    文字是人類用符號記錄表達信息以傳之久遠的方式和工具?,F(xiàn)代文字大多是記錄語言的工具。人類往往先有口頭的語言后產(chǎn)生書面文字,很多小語種,有語言但沒有文字。文字的不同體現(xiàn)了國家和民族的書面表達的方式和思維不同。文字使人類進入有歷史記錄的文明社會。
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